Ионная имплантация, ионное легирование, введение посторонних атомов внутрь тв. тела бомбардировкой его поверхности ионами в вакуумных установках; разновидность вакуумной ионно-плазменной технологии. Ионы создаются в спец. камере с ускорителем путём ионизации газообразных, жидких или тв. исходных веществ. Дозу имплантации определяют с помощью интегратора тока. Энергия ионов составляет 20—300 кэВ, а плотность ионного тока — 10—100 мкА/см2. Внедрение атомов (ионов) осуществляется за счёт кинетич. энергии ионов, намного превышающей энергию связи атомов в решётке, благодаря чему можно получать сплавы (смеси) из любых элементов. Требуемая энергия, глубина внедрения ионов, интенсивность распыления поверхности и упругая деформация кристаллич. решётки зависит от атомной массы, порядкового номера, объёма имплантанта и мишени. Введение веществ из группы лантаноидов повышает жаростойкость, карбидо- или боридообразующих элементов — твёрдость и износостойкость. И.и. меняет св-ва поверхности тв. тела, приповерхностного слоя. При И.и. удаляется дефектный слой от предыдущей обработки, при постимплантационном отжиге образуется ультрамелкозернистая упрочняющая фаза, происходит радиационное упрочнение и формирование сжимающих напряжений. В зависимости от требований к поверхности разрабатывается соотв. технология. И.и. применяют в микроэлектронике, энергетике, машиностроении и др. В Башкортостане в 90-е гг. 20 в. И.и. была впервые разработана в Авиационном техническом университете (С.М.Боровский, В.С.Мухин, А.М.Смыслов) и внедрена в Уфимском моторостроительном производственном объединении для обработки лопаток компрессора и турбины авиационных двигателей, энергетич. установок с целью повышения усталостной прочности. С 1992 в УМПО эксплуатируется участок И.и. с вакуумными установками, предназначенными для одновр. обработки более 100 деталей размерами 200×300 мм. Применяемые технологии повышают стойкость и экспл. характеристики металлорежущих инструментов, штамповой оснастки для холодного деформирования и др.
