Вакуумные ионно-плазменные технологии


Вакуумные ионно-плазменные технологии, совокупность методов обработки поверхности материалов (металлов, стекла, пластмасс и др.) с использованием вакуумной установки. Основаны на физ.-хим. процессах (конденсация, распыление, имплантация), происходящих при взаимодействии заряженных частиц (положительно заряженные ионы, электроны) с поверхностью тв. тела. Ионно-плазменная обработка материалов в вакууме заключается в очистке поверхности, активации и нанесении покрытий пучками ионов, потоками плазмы разл. плотности и энергии с помощью плазменных ускорителей. Плазмообразующим в-вом могут быть газы, пары металлов. Применяют для изменения хим. состава поверхностного слоя деталей из любого конструкц. материала (ионное азотирование, ионная цементация, ионно-имплантационное легирование), удаления дефектных поверхностных слоёв деталей любой конфигурации (очистка тлеющим разрядом, ионным пучком). В.и.-п.т. позволяют получать коррозионно-, эрозионно-, жаро-, износостойкие покрытия (от 5 до 500 мкм), увеличивающие долговечность деталей в 2—10 раз. С нач. 90-х гг. 20 в. В.и.-п.т. разрабатываются в Авиационном техническом университете (В.В.Будилов, В.С.Мухин, А.М.Смыслов и др.). Технологии ионной имплантации и обработки тлеющим разрядом используются при изготовлении лопаток компрессоров и турбин энергетических установок (Уфимское моторостроительное производственное объединение), технология обработки тлеющим разрядом — при произ-ве концевой арматуры гибких трубопроводов из нержавеющей стали (ФГУП «Гидравлика») и изготовлении свеч зажигания (Уфимское агрегатное производственное объединение).

Комментарии0